工控产品

Hitachi 日立 E-1045 离子溅射仪（Ion Sputter），为电子显微镜样品前处理的经典机型，广泛应用于 SEM 镀金、镀钯、金属薄膜制备等科研和工业领域。

本设备为 2009 年日本原装进口，外观成色良好，内部洁净，功能运行正常，已通过实际测试。图片均为实物拍摄，所见即所得。

主要参数

• 型号（Model）：E-1045

• 生产年份：2009

• 电源：100V 50/60Hz 单相

• 功率：1.2 kW

• 产地：日本制造（Made in Japan）

• 用途：离子溅射、SEM 镀膜、纳米材料制备、金属薄膜沉积

设备特点

• 可稳定产生离子束用于贵金属镀膜（Au、Pt、Pd）

• 镀层均匀，重现性佳

• 适合所有品牌 SEM 样品前处理

• 操作界面简单易用

• 内置气体调节功能（GAS ADJUST）

 随机附带（根据照片核实）

• ULVAC GLD-136B 机械泵（原装日本）

• 高压电缆及气路管线

• 原装溅射头组件

• 设备电源线与控制连接线

（如需我帮你整理“包含物清单”用于电商描述，我可以继续完善。）

状态说明

• 设备外观保存完整，无明显磕碰

• 内部腔体干净，状态良好

• 各项功能正常，可通电试机

• 非常适合实验室、科研所、半导体工厂使用

适合应用

• SEM 样品前处理

• 金属薄膜溅射（如金、铂、钯）

• 纳米材料研究

• 表面工程

• 微电子实验室